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  • Nanostrukturen im neuen E-Beam Resist © IDM e.V.

    Projekt

    Polymere Funktionsmaterialien für die Nahfeld-Lithographie

    Durch die gezielte Optimierung der chemischen Struktur kommerzieller Polymerer lassen sich maßgeschneiderte Materialien entwickeln. Sie bilden die Grundlage für einen kostengünstigen, hochauflösenden und höchstempfindlichen Resist für die Nanostrukturierung.

    Forschungseinrichtung: Institut für Dünnschichttechnologie und Mikrosensorik e. V. – IDM
    Öffnet Einzelsicht