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  • Fertig prozessierter Wafer mit Elektronendetektoren - © CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH

    Projekt

    Prozessentwicklung zur Herstellung von hochempfindlichen UV- und Elektronendetektoren

    Durch die Entwicklung von Detektoren mit flacher aktiver Zone lassen sich UV-Photonen und niederenergetische Elektronen mit hoher Quanteneffizienz detektieren. Dies ist für eine oberflächensensitive Messung im Rasterelektronenmikroskop unerlässlich.

    Forschungseinrichtung: CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH
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  • Rasterelektronenmikroskopaufnahme von photonischen Kristallstrukturen realisiert durch ein optimiertes anisotropes Ätzverfahren - © CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH

    Projekt

    Photonische Kristalle für die InfraRot Gasanalyse

    Es wurden photonische Kristalle (Siliziumlochstrukturen) entwickelt, die direkt in Infrarotemitter integriert werden können und eine Selektion der Wellenlänge ermöglichen, ohne Filter zu benötigen. Dies ermöglicht eine Miniaturisierung des Gesamtsystems und eine Kostenreduktion beim Aufbau.

    Forschungseinrichtung: CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH
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  • Links: Emissionsverteilung der 1220 Nanometer LEDs auf Metallkernleiterplatte mit IOH, rechts: Emissionsverteilung der 1220 Nanometer LEDs nur mit Metallrahmenkontakt, © OUT e.V.

    Projekt

    Transparente ohmsche Kontakte für Sicherheits-NIR-LED

    Es galt, eine transparente Kontaktierung für NIR-LEDs zu entwickeln, um die Lichtleistung um zirka 30 bis 50 Prozent zu erhöhen. Dies wurde durch die Entwicklung eines Beschichtungsverfahrens zum Erzeugen verschiedenartiger Kontakte auf (p-) Halbleitern erreicht.

    Forschungseinrichtung: Optotransmitter-Umweltschutz-Technologie e. V. – OUT
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  • UKP-Lasermaterialbearbeitung

    Projekt

    OLaf – Optimierung des Ultrakurzpuls-Laserabtrags durch flexible Strahlformung

    Mittels optischer Methoden kann das Intensitätsprofil des Laserfokus beliebig variiert werden. Dadurch können beim Ultrakurzpuls-Materialabtrag die Rauheit um 30 Prozent reduziert und die Abtragrate verdoppelt werden. Parallele Bearbeitungsprozesse und komplexe 3D Mikroprofile werden ermöglicht.

    Forschungseinrichtung: Günter-Köhler-Institut für Fügetechnik und Werkstoffprüfung GmbH – ifw Jena
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  • Teststruktur nach Zerstörung durch den Elektromigrationstest - © CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH

    Projekt

    Elektromigration in Sensor-Kontaktsystemen (EMIC)

    Einige Langzeituntersuchungen bei hochgenauen Drucksensoren zeigten bisweilen spontane Driften bei erhöhten Temperaturen T = 135°C. Ziel des Projektes war die Untersuchung der Elektromigration in einem Sensor-Kontaktsystem, da diese eine mögliche Ursache für die Driften darstellt.

    Forschungseinrichtung: CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH
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  • REM Aufnahme der Membranstruktur einzelner Chips im Waferverbund - © CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH

    Projekt

    Miniaturisierter InfraRot-Emitter-Chip (MIREC)

    Mit einen plasmaunterstütztem Ätz-Prozess werden gleichzeitig eine dünne funktionale Membran und ein Bruchgraben für die folgende Chipvereinzelung erzeugt. Bei MEMS-IR-Emittern erhält man damit gegenüber dem Stand der Technik mehr als Faktor 4 kleinere Flächen und eine um Faktor 2 höhere Dynamik.

    Forschungseinrichtung: CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH
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  • Quanteneffizienz als Funktion der Wellenlänge für ein im Projekt entwickelten UV Detektor. Diode 1 ist im sichtbaren Bereich des Spektrums nicht empfindlich.

    Projekt

    Gesteuerte Defektdynamik in Silizium zur verbesserten UV-Stabilität (GeDeSi)

    Ziel ist die Entwicklung eines Degradationsmodells zur Beschreibung der Degradationsdynamik von Silizium-basierten UV Detektoren unter UV Bestrahlung. Zusätzlich sollen auf Basis der Experimente design rules zur Herstellung degradationsstabiler Silizium-basierter UV-Detektoren aufgestellt werden.

    Forschungseinrichtung: CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH
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  • Ein vernetzter Elektrolytfilm.

    Projekt

    Festelektrolyte und deren Applikation im Rolle-zu-Rolle-Verfahren

    In dem Projekt gelang die Entwicklung eines festen Polymerelektrolyts für „Smart Windows“, elektrochrome (EC) Displays, EC-Transistoren sowie Lithium-Batterien mit Blick auf die Rolle-zu-Rolle-Technologie.

    Forschungseinrichtung: Thüringisches Institut für Textil- und Kunststoff-Forschung e. V. – TITK
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  • Foto eines Wafers mit in diesem Forschungsvorhaben gefertigten n-in-p Pad Detektoren - © CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH

    Projekt

    Defektengineeringprozesse in p-Typ Silizium (DeSiD)

    Durch geeignete Prozessmodifikationen bei der Prozessierung von Strahlungsdetektorwafern wie Sauerstoffanreicherung, wurde die Strahlenresistenz von Detektoren für ionisierende Strahlung wesentlich erhöht. Die Wirksamkeit wurde an n-in-p Silizium-Testdetektoren durch Bestrahlungstests nachgewiesen.

    Forschungseinrichtung: CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH
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  • Telemetrieuntersuchung in realer Prozessumgebung links DLC Plasmaanlage rechts Eingebautes Messsystem im Prozessraum der DLC Anlage

    Projekt

    Drahtlos abfragbare 2,45 GHz SAW-Temperatursensorsysteme (PLASTEL)

    Für drahtlos abfragbare 2,45 GHz SAW-Temperatursensorsysteme wurden Antennenkombinationen realisiert, die den Einsatz von SAW-Transpondern in sowohl groß- aber auch kleinvolumigen hochdynamisch betreibbaren Plasmabeschichtungsanlagen mit dynamischen dielektrischen Prozessbedingungen ermöglichen.

    Forschungseinrichtung: ITW e. V. Chemnitz, Institut für innovative Technologien
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