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  • SiH4 – NH3 – Ar – Plasma bei 81.36 MHz

    Projekt

    VHF-Niedertemperatur -Siliziumnitrid

    Mittels VHF (Very High Frequency)-Anregung können hochdichte Plasmen realisiert werden. In diesem Projekt soll eine Technologie zur plasma-chemischen Abscheidung von Siliziumnitridschichten mittels VHF Anregung (81.36 MHz) entwickelt werden.

    Forschungseinrichtung: Optotransmitter-Umweltschutz-Technologie e. V. – OUT
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  • D³ Dust Deposit Detector

    Projekt

    Sensor zur Ertragssteigerung von Solaranlagen

    Der neue Sensor soll mittels einer optischen Einheit Verschmutzungen von Solargeneratoren erkennen und eine Reinigungsanforderung ausgeben. So soll eine bedarfsgerechte Reinigung ermöglicht, dadurch der Ertrag optimiert und die Zuverlässigkeit erhöht werden.

    Forschungseinrichtung: Institut für Luft- und Kältetechnik gGmbH – ILK Dresden
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  • Versuchsstand mit Achsen und Scanner, rechts Ventilinsel

    Projekt

    Greifer mit automatischer Formkorrektur für ultradünne Wafer (GRIPFORM)

    Ultradünne Wafer verbessern die Materialeffizienz von Solarzellen und senken die Kosten für die Solarstromerzeugung. Die Handhabung der Wafer erfolgt durch Kombination berührende und berührungsloser fluiddynamischer Kraftübertragung. Der Einsatz des Systems erfolgt in der Wafer- und Zellenfertigung.

    Forschungseinrichtung: ITW e. V. Chemnitz, Institut für innovative Technologien
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